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半導體超聲波清洗機

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2018.01.15
信息摘要:
半導體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的核心,而半導體產(chǎn)業(yè)的基礎是硅材料工業(yè)。雖然有各種各樣新型的半導體材料不斷出現(xiàn),但 90%以上的半導體器件和電路,尤…

半導體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的核心,而半導體產(chǎn)業(yè)的基礎是硅材料工業(yè)。雖然有各種各樣新型的半導體材料不斷出現(xiàn),但 90%以上的半導體器件和電路,尤其是超大規(guī)模集成電路(ULSI)都是制作在高純優(yōu)質(zhì)的硅單晶拋光片和超聲波清洗機的。

硅片清洗對半導體工業(yè)的重要性早在50年代初就已引起人們的高度重視,這是因為硅片表面的污染物會嚴重影響器件的性能、可靠性、和成品率。隨著微電子技術(shù)的飛速發(fā)展以及人們對原料要求的提高,污染物對器件的影響也愈加突出。

半導體超聲波清洗機

20世紀70年代在單通道電子倍增器基礎上發(fā)展起來一種多通道電子倍增器。微通道板具有結(jié)構(gòu)簡單、增益高、時間響應快和空間成像等特點,因而得到廣泛應。它主要應用于各種類型的像增強器、夜視儀、量子位置探測器、射線放大器、場離子顯微鏡、超快速寬頻帶示波器、光電倍增器等。微通道板是一種多陣列的電子倍增器,是微光像增強器的核心部件。MCP的制作工藝周期長且復雜,表觀疵病是制約MCP成品率的關(guān)鍵因素之一。在MCP的工藝制造過程中,不可避免遭到塵埃、金屬、有機物和無機物的污染。這些污染很容易造成其表面缺陷及孔內(nèi)污垢,產(chǎn)生發(fā)射點、黑點、暗斑等,導致MCP的良品率下降,使得管子質(zhì)量不穩(wěn)定以至失效,因此在MCP的制造過程中利用超聲波清洗技術(shù)去除污染物十分重要。

無錫市奧曼特科技有限公司成立于2003年,有多年太陽能硅片清洗設備和超聲波清洗機制造的經(jīng)驗,可以為客戶提供更適合的產(chǎn)品和解決方案,2008年企業(yè)通過了ISO9001:2000的質(zhì)量管理體系,使產(chǎn)品的穩(wěn)定性和服務的優(yōu)越性均得到了驗證。咨詢熱線:051081000181

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