奧曼特15年專業(yè)制作半導(dǎo)體晶圓片甩干機(jī)，品質(zhì)更值得信賴。

今天由無錫奧曼特為大家簡述晶圓片的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干的相關(guān)技術(shù)：

近年來，隨著微電子工業(yè)迅速發(fā)展和IC器件制造水平的不斷提高，對器件制造工藝過程中相應(yīng)工藝設(shè)備的一個(gè)顯著要求，體現(xiàn)在對潔凈度的控制和提高上。各種工藝設(shè)備在設(shè)計(jì)和制造時(shí)，都必須在防止顆粒產(chǎn)生、防止污染等方面給以特別重視和關(guān)注。盡管這樣，為了提高器件質(zhì)量和成品率控制等，在進(jìn)行下道工序以及整個(gè)工藝處理過程中都要對晶片進(jìn)行必要的清洗和潔凈化處理。晶片的旋轉(zhuǎn)式?jīng)_洗甩干方法就是用來完成這一功能的最常用、最有效、最經(jīng)濟(jì)的方法之一。

目前，IC生產(chǎn)制造過程中晶圓片的濕法清洗工藝技術(shù)仍然是IC生產(chǎn)線上不可缺少和替代的重要工藝環(huán)節(jié)和手段。新的濕法清洗工藝技術(shù)及相關(guān)工藝和設(shè)備不斷出現(xiàn)。但濕法腐蝕清洗后，晶圓片的干燥和潔凈化處理仍以旋轉(zhuǎn)沖洗+離心甩干+氮?dú)夂娓蔀橹?。該方法目前仍然是濕法清洗工藝技術(shù)的主要組成部分之一，在IC生產(chǎn)制造過程中成為不可缺少的重要環(huán)節(jié)。

晶圓片的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干技術(shù)主要包括：片子的旋轉(zhuǎn)沖洗、離心甩干、氮?dú)夂娓?、放靜電控制、工藝過程控制、系統(tǒng)潔凈化處理等技術(shù)環(huán)節(jié)。只有可靠、有效的處理好以上環(huán)節(jié)才能“把好”濕法清洗工藝技術(shù)的“出口”關(guān)，從而確保晶圓片在流向下道工序前的潔凈度要求。

先進(jìn)的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干設(shè)備屬高潔凈度要求下的“微細(xì)”控制設(shè)備。因此，設(shè)備的潔凈化處理是系統(tǒng)內(nèi)各功能單元、部件、材料、加工工藝等眾多環(huán)節(jié)所要考慮的重要問題。

全自動(dòng)晶圓片甩干機(jī)的功能是在高速旋轉(zhuǎn)下，由水、氣、電各功能模塊、功能單元相互有序協(xié)調(diào)作用而完成的。它對設(shè)備的可靠性、安全性以及操作者的防護(hù)有嚴(yán)格的要求。在設(shè)計(jì)上主要采取了水、氣過程狀態(tài)監(jiān)控、門位置狀態(tài)監(jiān)控與互鎖、氮?dú)饧訜釡囟缺O(jiān)控、工作腔體溫度控制、緊急停止開關(guān)等相關(guān)措施。

本系列機(jī)型可以適應(yīng)從50mm到200mm直徑（包括方形和其他特殊形狀）材料的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干，可用于半導(dǎo)體硅圓片、砷化鎵材料、掩膜版、太陽能電池基片、藍(lán)寶石、光學(xué)鏡片、玻璃基片等類似相關(guān)材料的高潔凈度沖洗甩干。

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